1.
平井 誠、江
偉華、八井
浄：“PLD法で成膜したAlN薄膜表面の粗さ評価”、電気学会プラズマ研究会資料EP-99-4,
19 ~ 24 (1999)。
2.
豊島励自、池墻卓郎、今田
剛、江
偉華、八井
浄：“パルスパワー発生装置 "ETIGO-Ⅲ"によるIREB発生最適化”、電気学会プラズマ研究会資料EP-99-10, 55 ~ 60 (1999)。
3.
曽根川富博、大友勝彦、新垣利喜、前濱剛廣、江
偉華、八井
浄："背面堆積パルスイオ
ンビーム蒸着法による強誘電体材料の薄膜化"、1999年 電気学会 基礎・材料・共通部門大会講演論文集、268-272 (1999)。
4.
平井 誠、鈴木常生、Constantin
Grigoriu, 八井
浄：
"パルスレーザーアブレーション法で作製した AlN 薄膜の特性"、1999年 電気学会 基礎・材料・共通部門大会講演論文集、 339-344 (1999)。
5.
八井
浄："パルスイオンビームによる材料開発"、'99アルバックグループ真空技術実務講座（新潟）予稿集、1-6
(1999)。
6.
Aurelian Marcu, Constantin
Grigoriu, Weihua Jiang and Kiyoshi Yatsui: "Plume Behavior and Thin Film
Deposition by Pulsed Laser Deposition using Helicoidal Mask", Proceedings
on Physics and Applications of High Temperature and Dense Plasmas produced by
Pulsed Power, ed. by H. Akiyama and S. Katsuki, NIFS-PROC-42, p. 12 - 18
(1999).
7.
S. Kurashima, W. Jiang, K.
Yatsui, T. Hirata, R. Hatakeyama and N. Sato: "Preparation of Fullerens
by Intense, Pulsed Ion-Beam Evaporation", Proceeding on Physics and
Applications of High Temperature and Dense Plasmas produced by Pulsed Power,
ed. by H. Akiyama and S. Katsuki, NIFS-PROC-42, p. 19 - 26 (1999).
8.
N. Hashimoto, W. Jiang and K.
Yatsui: "Diagnostics of Behavior of Pulsed, Ion-Beam Ablation
Plasma", Proceeding on Physics and Applications of High Temperature and
Dense Plasmas produced by Pulsed Power, ed. by H. Akiyama and S. Katsuki,
NIFS-PROC-42, p. 27 - 33 (1999).
9.
鈴木常生、平井 誠、上野靖博、江
偉華、八井
浄：”パルスパワーを用いた材料開発―パルスレーザーデポジション法による (Cr,Al)N 薄膜の合成”、電気学会プラズマ・パルスパワー合同研究会資料
PPT-99-2, 7 - 11 (1999)。
10.
Constantin Grigoriu, Makoto
Hirai, Weihua Jiang, and Kiyoshi Yatsui: "Aluminum Nitride Nanosized
Powders produced by Laser Ablation", 電気学会プラズマ・パルスパワー合同研究会資料 PPT-99-3, 13 - 17 (1999)。
11.
江
偉華、八井
浄、J.
Dickens, and M. Kristiansen: "パルス電子ビームを用いた大電力マイクロ波の発生"、電気学会プラズマ・パルスパワー合同研究会資料 PPT-99-5, 25 - 28 (1999)。(12/10/99)
12.
高尾和人、升方勝己、中山真樹、八井
浄：”放電スイッチの長時間連続動作特性”、電気学会プラズマ・パルスパワー合同研究会資料 PPT-99-7, 35 - 40 (1999)。
13.
樫根健史、鈴木常生、江
偉華、原田信弘、八井
浄：”大強度パルスイオンビームアブレーションによる飛翔体加速”、電気学会プラズマ・パルスパワー合同研究会資料 EP-99-591, PPT-99- 8, 1 - 5
(1999)。
14.
杵鞭義明、森 秀人、石坂和弘、鈴木常生、江 偉華、八井 浄：「パルス細線放電法による超微粒子生成とその応用」、電気学会プラズマ・パルスパワー合同研究会資料、PPT-00-11, 51-54 (2000)。
15.
江 偉華、八井 浄：「パルスパワーによる高出力マイクロ波発生」、電気学会全国大会講演論文集 1, 455 - 458 (2000)
16.
八井 浄：「イオンビームアブレーションプラズマによる材料開発」、電気学会全国大会講演論文集 1,
463 - 466 (2000)。
17.
T. Suzuki, K. Komson, W. Jiang
and K. Yatsui: “Nanosize g-Al2O3 Powder Production by Pulsed Wire
Discharge”, Proceedings of Physics and Applications of Extreme
Energy-Density State, Nov. 25 – 26, 1999, edited by K. Yatsui and W.
Jiang, NIFS-PROC-45, March 2000, 91 – 96 (2000).
18.
Y. Kinemuchi, T. Suzuki, W.
Jiang and K. Yatsui: “Fabrication of Gas Selective Filter using Ultra Fine
Powder”, Proceedings of Physics and Applications of Extreme Energy-Density
State, Nov. 25 – 26, 1999, edited by K. Yatsui and W. Jiang,
NIFS-PROC-45, March 2000, 97 – 102 (2000).
19.
M. Hirai, Y. Ueno, Y.
Kinemuchi, T. Suzuki, W. Jiang and K. Yatsui: “Characteristics of (Cr,Al)N
Thin Films prepared by Pulsed Laser Deposition”, Proceedings of Physics and
Applications of Extreme Energy-Density State, edited by K. Yatsui and W.
Jiang, NIFS-PROC-45, 103 – 110 (2000).
20.
K. Masugata, K. Kinbara, T.
Atsumura, Y. Kawahara, K. Takao, I. Kitamura, T. Takahashi and K. Yatsui:
“Generation of High Current Pulsed Heavy Ion Beams using Bi-Directional
Pulses”, Proceedings of Physics and Applications of Extreme Energy-Density
State, edited by K. Yatsui and W. Jiang, NIFS-PROC-45, 155 – 161 (2000).
21.
K. Takao, K. Masugata and K.
Yatsui: “Development of Highly Repetitive Pulsed Power System using an Air
Core Transformer”, Proceedings of Physics and Applications of Extreme
Energy-Density State, edited by K. Yatsui and W. Jiang, NIFS-PROC-45, 162
– 167 (2000).
22.
G. Imada, W. Masuda and K.
Yatsui: “Characteristics of High-Pressure, Pulsed Glow Discharge in Gas
Density Depletion”, Proceedings of Physics and Applications of Extreme
Energy-Density State, edited by K. Yatsui and W. Jiang, NIFS-PROC-45, 199
– 204 (2000).
23.
K. Yatsui and W. Jiang
(edited): “Proceedings of Physics and Applications of Extreme Energy-Density
State”, National Institute for Fusion Science, (2000) p. 1 – 219.
24.
平井 誠、鈴木常生、江 偉華、八井 浄：「パルスイオンビームアブレーション法で作製した(Cr,Al)N 薄膜の特性」、電気学会パルスパワー研究会資料 PPT-00-32, 25 – 30
(2000)。
25.
清野 聡、池堵卓朗、小田恭之、今田 剛、江 偉華、八井 浄：「大強度パルス相対論的電子ビームによる NOx 除去」、 電気学会パルスパワー研究会資料 PPT-00-33, 31 – 36 (2000)。
26.
今田 剛、山野井 広、増田 渉、八井 浄：「高気圧パルスグロー放電に及ぼす衝撃波の影響」、電気学会パルスパワー研究会資料 PPT-00-34, 37 – 42
(2000)。
27.
末松久幸、八井
浄、矢野豊彦：「中性照射による MgO・3Al2O3
の高硬度化」、日本学術振興会プラズマ材料科学第153委員会、第47回研究会「エネルギービームによる新機能化表面の創製」資料、15 - 20 (2000)。
28.
鈴木常生、平井 誠、江
偉華、八井
浄：「パルスレーザーアブレーション法による硬質窒化物薄膜の合成」、日本学術振興会プラズマ材料科学第153委員会、第47回研究会「エネルギービームによる新機能化表面の創製」資料、21 - 27 (2000)。
29.
斎藤秀俊、大河原吉明、伊藤治彦、八井
浄：「高速ヘリウムイオン照射によるアモルファス炭素系膜の結合改善」、日本学術振興会プラズマ材料科学第153委員会、第47回研究会「エネルギービームによる新機能化表面の創製」資料、28 - 33 (2000)。
30.
八井
浄、江
偉華、鈴木常生、楊 城彩、北島和男：「パルスイオンビームアブレーション法による材料開発」、日本学術振興会プラズマ材料科学第153委員会、第47回研究会「エネルギービームによる新機能化表面の創製」資料、34 - 38 (2000)
31.
八井
浄：「極限エネルギー密度の発生と応用」2000年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集 11 - 14 (2000)。
32.
セーンウライ・チャーンナロン，杵鞭義明、鈴木常生、江
偉華、八井
浄：「パルス細線放電法による AlN 超微粒子の作製」、電気学会パルスパワー・放電合同研究会資料 PPT-00-43, ED-00-68, 13 - 16
(2000)。
33.
小田恭之、今田
剛、江
偉華、八井
浄、徳地 明、二宮紀彦：「極限エネルギー密度発生・応用装置 "ETIGO-III" で発生されるパルス相対論的電子ビームの特性」、電気学会パルスパワー・放電合同研究会資料 PPT-00-45, ED-00-70, 23 - 27 (2000)。
34.
井手浩二、北山伸二、鈴木常生、江
偉華、八井
浄：「イオンビームアブレーションプラズマの動特性計測」、電気学会パルスパワー・放電合同研究会資料 PPT-00-46, ED-00-71, 29 - 32
(2000)。
35.
矢澤 勝、原田信弘、樫根健史、江
偉華、八井
浄：「大強度パルスイオンビームによるアブレーションプラズマ加速の時間依存解析」、電気学会パルスパワー・放電合同研究会資料 PPT-00-47, ED-00-72, 33 - 38
(2000)。
36.
北島和男、鈴木常生、江
偉華、八井
浄：「パルスイオンビーム蒸着法による B4C 薄膜作製」、電気学会パルスパワー・放電合同研究会資料
PPT-00-53, ED-00-78, 21 - 26 (2000)。
37.
C. Sangurai, Y. Kinemuchi, T.
Suzuki, H. Suematsu, W. Jiang and K. Yatsui: "Synthesis of Nanosize
Powders of AlN by Pulsed Wire Discharge", 電気学会パルスパワー研究会資料、PPT-00-60, 31 - 35 (2000).
38.
M. Hirai, Y. Ueno, T. Suzuki,
W. Jiang and K. Yatsui: "Characteristics of (Cr1-xAlx)N
Films prepared by Pulsed Laser Deposition", 電気学会パルスパワー研究会資料、PPT-00-66, 65 - 69 (2000).
39.
Sung-Chae Yang, Ryuma
Iwashita, Tsuneo Suzuki, Weihua Jiang and Kiyoshi Yatsui: "Preparation of
Polycrystalline Silicone Thin Films by Pulsed Ion-Beam Evaporation", 電気学会パルスパワー研究会資料、PPT-00-70,
85 - 90 (2000).
40.
K. Kitajima, T. Suzuki, W.
Jiang and K. Yatsui: "Preparation and Characterization of B4C
Thin Film by Pulsed Ion-Beam Evaporation", 電気学会パルスパワー研究会資料、PPT-00-71, 91 - 96 (2000).
41.
M. Yazawa, K. Kashine, W.
Jiang, K. Yatsui and Nob. Harada: "Numerical Simulation of Foil
Acceleration by Intense Pulsed Ion Beam", Proc. for Symposium in Advanced
Research of Energy Technology 2000, Hokkaido University, 107-114 (2000).
42.
生田一成、太田和憲、原田信弘、江 偉華、八井 浄：「電熱化学反応を用いた飛翔体加速」、電気学会パルスパワー研究会資料、PPT-01-1, 1 – 4 (2001)。
43.
毛利 博、杵鞭義明、石坂和弘、鈴木常生、末松久幸、江 偉華、八井 浄：「ZrO2 添加による g-Al2O3 相転移温度の上昇―パルス細線放電法―」、電気学会パルスパワー研究会資料、PPT-01-7, 31 – 35 (2001)。
44.
井出弘二、北山伸二、鈴木常生、江 偉華、八井 浄：「パルスイオンビームアブレーションプラズマの動特性評価」、電気学会パルスパワー研究会資料、PPT-01-8, 37 – 40 (2001)。
45.
矢澤 勝、原田信弘、樫根健史、江 偉華、八井 浄：「大強度パルスイオンビームアブレーションによる箔加速－多層構造ターゲットの解析－」、電気学会パルスパワー研究会資料、PPT-01-9, 41– 46 (2001)。
46.
スンタロウ・ソアラシット、吉田悟郎、鈴木常生、末松久幸、江 偉華、八井 浄：「パルスイオンビーム蒸着法による YBa2Cu3O7-d エピタキシャル薄膜作製」、電気学会パルスパワー研究会資料、PPT-01-10, 47 – 50
(2001)。
47.
Kiyoshi Yatsui, Weihua Jiang,
Hisayuki Suematsu, Tsuneyuki Suzuki, and Sung-Chae Yang: “Preparation of
Functional Thin Films and Nanosize Powders by Pulsed Ion Beam Ablation
Plasma”, Proc. Plasma Science Symposium 2001/The 18th Symposium
on Plasma Processing (PSS-2001/SPP-18), Kyoto, p. 245-246 (2001).
48.
S. C. Yang, A. Sharoon, N.
Uchitomi, T. Suzuki, W. Jiang, and K. Yatsui: “Preparation of
Polycrystalline Silicon Thin Films by Pulsed Ion-Beam Evaporation”, Proc.
Plasma Science Symposium 2001/The 18th Symposium on Plasma
Processing (PSS-2001/SPP-18), Kyoto, p. 431-432 (2001).
49.
Y. Kinemuchi, S. Channarong,
H. Suematsu, T. Suzuki, W. Jiang and K. Yatsui: “AlN Nanosize Powders by
Pulsed Wire Discharge”, Proc. Plasma Science Symposium 2001/The 18th
Symposium on Plasma Processing (PSS-2001/SPP-18), Kyoto, p. 541-542 (2001).
50.
Y. Kinemuchi, T. Ikeuchi, H.
Suematsu, T. Suzuki, W. Jiang and K. Yatsui: “Synthesis of PZT Nanosized
Powders by Pulsed Wire Discharge”, Proc. Plasma Science Symposium 2001/The
18th Symposium on Plasma Processing (PSS-2001/SPP-18), Kyoto, p.
543-544 (2001).
51.
H. Suematsu, G. Yoshida, S.
Sorasit, T. Suzuki, W. Jiang, and K. Yatsui: “Preparation of Epitaxial YBa2Cu3O7-d Thin Films on SrTiO3
Substrate by Pulsed Ion-Beam Evaporation”, Proc. Plasma Science Symposium
2001/The 18th Symposium on Plasma Processing (PSS-2001/SPP-18),
Kyoto, p. 613-614 (2001).
52.
Y. Kinemuchi, H. Mouri, H.
Suematsu, T. Suzuki, W. Jiang and K. Yatsui: “Increase in Phase Transition
Temperature of g-Al2O3
by Dispersing Nanosize ZrO2 Powders”, Proc. Plasma Science
Symposium 2001/The 18th Symposium on Plasma Processing
(PSS-2001/SPP-18), Kyoto, p. 743-745 (2001).
53.
K. Yatsui: “R&D of
Pulsed Power Technology and Its Applications in Japan”, 電気学会プラズマ・パルスパワー合同研究会資料、PST-01-24/PPT-01-34, 13 - 16
(2001)。
54.
Sung-Chae Yang, Ali Sharoon,
Hisayuki Suematsu, Weihua Jiang, Kiyoshi Yatsui, Naotaka Uchitomi, and
Toshiaki Suzuki: “Preparation of Polycrstalline Silicon Thin Films by Pulsed
Ion-Beam Evaporation”, 電気学会プラズマ・パルスパワー合同研究会資料、PST-01-26/PPT-01-36,
23 - 28 (2001)。
55.
H. Suematsu, G. Yoshida, S.
Sorasit, T. Suzuki, W. Jiang, abd K. Yatsui: “Preparation of YBa2Cu3O7-d Thin Films on SrTiO3
Substrates by Pulsed Ion-Beam Evaporation”, 電気学会プラズマ・パルスパワー合同研究会資料、PST-01-27/PPT-01-37, 29 - 32
(2001)。
56.
Kenji Kashine, Masaru Yazawa,
Nobuhiro Harada, and Kiyoshi Yatsui: “Foil Acceleration of Double Layer
Target by Intense, Pulsed, Ion Beam Ablation”, 電気学会プラズマ・パルスパワー合同研究会資料、PST-01-28/PPT-01-38, 33 - 36
(2001)。
57.
曽根川富博、新垣利喜、前濱剛廣、江 偉華、八井 浄：「パルスイオンビーム蒸着法による PZT 薄膜の作製と評価」、電気学会パルスパワー研究会資料、PPT-01-49, 13 – 17
(2001)。
58.
松田拓也、小幡松二、江 偉華、八井 浄、徳地 明：「パワー
MOSFET による高電圧高速半導体スイッチの開発」、電気学会パルスパワー研究会資料、PPT-01-53、39 – 43 (2001)。
59.
七種 剛、鈴木常生、末松久幸、江 偉華、八井 浄：「大強度パルスイオンビーム蒸着法による TiFe 水素吸蔵合金薄膜の作製」、電気学会パルスパワー研究会資料、PPT-01-54、45 – 49 (2001)。
60.
吉田悟郎、スンタロウ・ソアラシット、鈴木常生、末松久幸、江 偉華、八井 浄：「大強度パルスイオンビーム蒸着法による YBa2Cu3O7-d エピタキシャル薄膜の高速作製」、電気学会パルスパワー研究会資料、PPT-01-55、1– 5 (2001)。
61.
犀藤 基、平井 誠、鈴木常生、末松久幸、江 偉華、八井 浄：「PLD
法による
Cr(NxOy) 薄膜の作製」、電気学会パルスパワー研究会資料、PPT-01-56、7– 10 (2001)。
62.
林 良和、江 偉華、八井 浄：「”ETIGO-Ⅳ”
におけるイオンビームダイオードの開発と評価」、電気学会パルスパワー研究会資料、PPT-01-63、p. 11 – 13 (2001).
63.
Sarita Devi Prasad, Weihua
Jiang, Kiyoshi Yatsui: “Numerical Simulation of Pulsed Ion Beam Generated by
Highly Repetitive Pulsed Power Generator “ETIGO-Ⅳ””, 電気学会パルスパワー研究会資料、PPT-01-64、p. 15 – 17 (2001).
64.
石田大典、江 偉華、八井 浄：「仮想陰極発振器による大電力マイクロ波の発生」、電気学会パルスパワー研究会資料、PPT-01-67、p. 31 – 35 (2001).
65.
北山伸二、猿渡文人、鈴木常生、末松久幸、江 偉華、八井 浄：「大強度パルスイオンビーム蒸着法における金属薄膜の堆積過程の解明」、電気学会パルスパワー研究会資料、PPT-01-69、p. 1 – 6 (2001).
66.
アリー・ファズラット、楊 城彩：「大強度パルスイオンビーム蒸着法による多結晶シリコン薄膜の作製」、電気学会パルスパワー研究会資料、PPT-01-70、p. 7 – 10 (2001).
67.
南 千洋、原田信弘、江 偉華、八井 浄：「大強度パルス軽イオンビームによる超高圧力の発生と飛翔体加速」、電気学会パルスパワー研究会資料、PPT-01-72、p. 17 – 20 (2001).
68.
浅見 悟、平井 誠、鈴木常生、末松久幸、江 偉華、八井 浄：「PLD法によるTi-C-N-O薄膜の作製」、電気学会パルスパワー研究会資料、PPT-01-75、p.
33 – 36 (2001).
69.
今田 剛、清野 聡、稲川秋人、八井 浄：「大強度パルス相対論的電子ビームによる排気ガス処理」、電気学会パルスパワー・放電合同研究会資料 PPT-01-94/ED-01-148, 13
– 16 (2001)。
70.
K. Yatsui, W. Jiang, H.
Suematsu, T. Suzuki, Y. Kinemuchi, S. C. Yang, and C. H. Cho: “Pulsed Power
Technology and Its Applications –Synthesis of Novel Materials by Pulsed
Ion Beam Ablation Plasma-“, 電気学会パルスパワー研究会資料 PPT-01-101, 1 – 4 (2001)。
71.
H. Suematsu, K. Kosaka, T.
Honzawa, K. Kato, W. Jiang, and K. Yatsui: “Preparation of SrAl2O4:Eu,Dy
Thin Films on Polyethlene Substrates by Pulsed Ion-Beam Evaporation”,
電気学会パルスパワー研究会資料 PPT-01-103, 11 – 13
(2001)。
72.
Sung-Chae Yang, Ali Fazlat,
Ryuma Iwashita, Tsuneo Suzuki, Hisayuki Suematsu, Weihua Jiang, and Kiyoshi
Yatsui: “Characteristics of Polycrystalline Silicone Thin Films prepared by
Pulsed Ion-Beam Evaporation”, 電気学会パルスパワー研究会資料 PPT-01-104, 15 – 18 (2001)。
73.
Kazuhiro Ishizaka, Yoshiaki
Kinemuchi, Tsuneo Suzuki, Hisayuki Suematsu, Weihua Jiang, and Kiyoshi Yatsui:
“Electric and Magnetic Properties of Nickel Ferrite Nanosize Powders
prepared by Pulsed Wire Discharge”, 電気学会パルスパワー研究会資料 PPT-01-105, 19 – 23 (2001)。
74.
Yoshiaki Kinemuchi, Tadashi
Ikeuchi, Hirotaka Akimoto, Tsuneo Suzuki, Hisayuki Suematsu, Weihua Jiang, and
Kiyoshi Yatsui: “Mass Production of Nanosize Powders by Pulsed Wire
Discharge”, 電気学会パルスパワー研究会資料
PPT-01-106, 25 - 30 (2001)。
75.
C. Cho, K. Murai, Y. Kinemuchi,
T. Suzuki, H. Suematsu, W. Jiang and K. Yatsui: “Effect of Circuit
Parameters on Synthesizing Nanosized AlN Powders by Pulsed Wire Discharge”, 電気学会パルスパワー研究会資料
PPT-01-107, 31 - 35 (2001)。
76.
Hajime Saito, Makoto Hirai,
Tsuneo Suzuki, Hisayuki Suematsu, Weihua Jiang, and Kiyoshi Yatsui: “Cr-N-O
Thin Films Deposition by Pusled Laser Ablation Using a Cr Target in NH3
Atmosphere”, 電気学会パルスパワー研究会資料 PPT-01-108, 37 - 41 (2001)。
77.
Daisuke Ishida, Masaki Sato,
Weihua Jiang, and Kiyoshi Yatsui: “High Power Microwave Generation by
Virtual Cathode Oscillator”, 電気学会パルスパワー研究会資料 PPT-01-115, 63 - 67 (2001)。
78.
Sung-Chae Yang, Ali Sharoon,
Toshiaki Suzuki, Weihua Jiang, and Kiyoshi Yatsui: “Prepartion of
Polycrystalline Silicon Thin Films by Pulsed Ion-Beam Evaporation”, Proc.
Workshop on Extremely High Energy Density Plasmas and Their Applications, ed.
by S. Ishii, NIFS-PROC-50, 20 – 25 (2001).
79.
S. Sorasit, G. Yoshida, T.
Suzuki, H. Suematsu, W. Jiang, and K. Yatsui: “Preparation of YBa2Cu3O7-d Epitaxial Thin Films by
Pulsed Ion-Beam Evaporation”, Proc. Workshop on Extremely High Energy
Density Plasmas and Their Applications, ed. by S. Ishii, NIFS-PROC-50, 26
– 31 (2001).
80.
H. Suematsu, K. Yatsui and T.
Yano: “The Relationship between The Hardness and The Point-Defect-Density in
Neutron-Irradiated MgO-3.0Al2O3 asnd AlN”, Proc.
Workshop on Extremely High Energy Density Plasmas and Their Applications, ed.
by S. Ishii, NIFS-PROC-50, 32 – 41 (2001).
81.
Satoshi Seino, Akihito Inagawa,
Go Imada, Weihua Jiang, and Kiyoshi Yatsui: “Characteristics of Flue Gas
Treatment by Intense, Pulsed, Relativistic Electron Beam”, Proc. Workshop on
Extremely High Energy Density Plasmas and Their Applications, ed. by S. Ishii,
NIFS-PROC-50, 74 – 79 (2001).
82.
Shinji Kitayama, Koji Ide,
Weihua Jiang, and Kiyoshi Yatsui: “Behavior of Ablation Plasma produced by
Pulsed Ion-Beam Evaporation”, Proc. Workshop on Extremely High Energy
Density Plasmas and Their Applications, ed. by S. Ishii, NIFS-PROC-50, 198
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83.
Y. Kinemuchi, H. Mouri, K.
Ishizuka, T. Suzuki, H. Suematsu, W. Jiang, and K. Yatsui: “Nanosized g-Alumina with Dispersed
Zirconia synthesized by Pulsed Wire Discharge”, Proc. Workshop on Extremely
High Energy Density Plasmas and Their Applications, ed. by S. Ishii,
NIFS-PROC-50, 227 – 232 (2001).
84.
八井 浄：「パルスイオンビームアブレーションプラズマを用いた材料開発研究」、Proc. 1st Symp. Beam Science and
Technology (BESTEN) for an Emergent Network (BESTEN 2001), Tokyo, 79 –
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85.
松田拓也、江 偉華、八井 浄、徳地 明：「パワーMOSFETによる高電圧高速半導体スイッチの開発」、第１回重イオン核融合研究会講演概要集 (2001)。
86.
八井 浄：「パルスパワープラズマの応用」、平成13年度電気学会北陸支部「広がるプラズマの応用」シンポジウム予稿集、p. 27 - 30 (2002)。
87.
中川太陽、今田 剛、鈴木正太郎、増田 渉、八井 浄：「横方向励起大気圧ガスレーザの励起放電に及ぼす影響」、電気学会パルスパワー研究会資料, PPT-02-3, 11 – 16
(2002)。
88.
池内 禎、杵鞭義明、末松久幸、江 偉華、八井 浄：「パルス細線放電法におけるプラズマの挙動観察」、電気学会パルスパワー研究会資料, PPT-02-9, 47 – 50
(2002)。
89.
秋元啓孝、杵鞭義明、鈴木常生、末松久幸、江 偉華、八井 浄：「パルス細線放電法による成膜実験」、電気学会パルスパワー研究会資料, PPT-02-10, 51 – 55
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小坂 篤、本多直哉、本澤武彦、末松久幸、加藤景三*（*新潟大学）、江 偉華、八井 浄：「大強度パルスイオンビーム蒸着法によりポリエチレン基板上に作製されたSrAl2O4:Eu,Dy薄膜の蛍光特性の評価」、第20回プラズマプロセシング研究会（SPP-20）プロシーディングス、73-74
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平井 誠、鈴木常生、末松久幸、江 偉華、八井 浄：「パルスレーザー堆積法で作製したCr-Al-N-O薄膜の耐磨耗性」、第20回プラズマプロセシング研究会（SPP-20）プロシーディングス、123-124 (2003).
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鈴木俊太郎、モハマド・シャリル・ビン・ビディ、平井 誠、鈴木常生、末松久幸、江 偉華、八井 浄：「PLD法により作製されたTiFe水素吸蔵合金薄膜の構造評価」、第20回プラズマプロセシング研究会（SPP-20）プロシーディングス、125-126 (2003).
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Jang-Hoon Park*, Byung-Yoon
Chu*,Sung-Chae Yang*(*全北大学校), 岩下竜馬、末松久幸、江 偉華、八井 浄：「パルスイオンビーム蒸着法による多結晶Si1-xGex薄膜の作製」、第20回プラズマプロセシング研究会（SPP-20）プロシーディングス、209-210
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曽根川富博*、新垣利喜*、金城綾子*、勢理客勝則*、前濱剛廣*(*琉球大学)、江 偉華、八井 浄：「パルスイオンビーム蒸着法によるPZT薄膜の作製と特性評価」、第20回プラズマプロセシング研究会（SPP-20）プロシーディングス、277-278
(2003).
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村井啓一、曺 柱鉉、末松久幸、江 偉華、八井 浄：「パルス細線放電法により作製された超微粒子の粒径制御」、電気学会パルスパワー研究会資料, PPT-03-19, 35 - 40 (2003)。
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プラサド・サリタ・デヴイ、江 偉華、八井 浄：「仮想陰極発振器による高出力マイクロ波発生に関する数値解析」、電気学会パルスパワー研究会資料, PPT-03-21, 47 - 50 (2003)。
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猿渡文人、本田和章、江 偉華、八井 浄、清水尚博：「誘導エネルギー蓄積電源を用いたパルスコロナ放電による NOx 処理」、電気学会パルスパワー研究会資料,
PPT-03-27, 7 - 11 (2003)。
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佐山明示、平井 誠、鈴木常生、末松久幸、江 偉華、八井 浄：「パルスレーザー堆積法による Ti-Ni-N-O 薄膜の作製とその特性評価」、電気学会パルスパワー研究会資料, PPT-03-31, 29 - 32 (2003)。
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岸 武広、鈴木常生、末松久幸、江 偉華、八井 浄：「パルス軽イオンビームを用いた反応・成膜同時プロセスの開発」、電気学会パルスパワー研究会資料, PPT-03-32, 33 - 36 (2003)。
126.
川原英樹、宍戸博明、湯之上 隆、有門経敏、鈴木常生、末松久幸、江 偉華、八井 浄：「パルス軽イオンビームによるアブレーション量のターゲット表面粗さ依存性」、電気学会パルスパワー研究会資料, PPT-03-33, 37 - 42 (2003)。
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猿渡文人、本田和章、江 偉華、八井 浄、清水尚博：「SI
サイリスタを用いた小型パルス電源による NOx 処理」、第16回SIデバイスシンポジウム講演論文集、43
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129.
櫻井智紀、今田 剛、八井 浄：「大強度パルス相対論的電子ビームによるデイーゼル排ガス処理」、電気学会パルスパワー研究会資料
PPT-04-8, 1 – 6 (2004)。
130.
神原宏介、大野修平、島田奈美、江 偉華、八井 浄：「仮想陰極発振器による大電力マイクロ波の発生とその評価」、電気学会パルスパワー研究会資料
PPT-04-9, 7 – 10 (2004)。
131.
横尾知行、今福孝昌、大嶋伸明、江 偉華、八井 浄：「SOS
を用いた小型繰返しパルスパワー発生装置の開発」、電気学会パルスパワー研究会資料
PPT-04-10, 11 – 14 (2004)。
132.
横尾知行、今福孝昌、大嶋伸明、江 偉華、八井 浄、後藤達美、草間秀晃、井波俊夫：「半導体解放スイッチ（SOS
を用いたパルスパワー電源開発）、電気学会パルスパワー研究会資料
PPT-04-21, 37 – 40 (2004)。
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神原宏介、大野修平、島田奈美、江 偉華、八井 浄：「仮想陰極発振器のマイクロ波変換効率改善」、電気学会パルスパワー研究会資料
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江 偉華、本田和章、太田和憲、八井 浄：「自動車用越小型パルス高電圧電源」、電気学会パルスパワー研究会資料
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