極端紫外光源の開発

　半導体露光技術の進化により、高出力の極端紫外(EUV) 光源が要求されています。EUV光の発生には高温・高密度プラズマが必要です。パルス放電を用いてプラズマを発生し、大電流に伴うピンチ力を用いてプラズマの圧縮と加熱を実現することができます。本センターでは、半導体スイッチと磁気スイッチの組合せにより、パルス大電流電源を開発し、これを用いたEUV発生研究を行っています。

極端紫外光源開発用パルス大電流電源

　

更新日：平成16年11月9日