研究業績

原著論文 国際学会 国内学会

原著論文

  1. Yusuke Iwasaki, Yusei Mizuno, Tadachika Nakayama and Tsuneo Suzuki: "Preparation of Cr–Si–N–O thin films epitaxially grown on MgO substrates by pulsed laser deposition", Vacuum 179 (2020) 109498
  2. Takashi Sekine, Yusei Mizuno, Tadachika Nakayama, Hisayuki Suematsu, and Tsuneo Suzuki: "Hardness of chromium nitride thin films prepared with addition of ytterbium", Jpn. J. Appl. Phus. 59, SCCB22 (2020)
  3. Yusei Mizuno, Tadachika Nakayama, Hisayuki Suematsu and Tsuneo Suzuki: "Preparation of B1-(Cr,Ga)N thin films by pulsed laser deposition", Japanese Journal of Applied Physics, 57 [2S2] (2018) 02CB01-1〜02CB01-3. https://doi.org/10.7567/JJAP.57.02CB01.
  4. Yusei Mizuno, Tadachika Nakayama, Hisayuki Suematsu and Tsuneo Suzuki, “Improvement in Hardness of CrN Thin Film by Adding GaN and Evaluation of Its Solubility Limit", Journal of the Japan Institute of Metals, 82 [4] (2018) 89-93 (In Japanese). http://dx.doi.org/10.2320/jinstmet.JBW201705　.
  5. Yusei Mizuno, Tadachika Nakayama, Hisayuki Suematsu and Tsuneo Suzuki, “Cr11xGaxN thin films with various GaN", Materials Transactions, 59 [10] (2018) 1574-1577. http://dx.doi.org/10.2320/matertrans.MAW201806.
  6. Kazuma Suzuki, Hisayuki Suematsu, Gordon Thorogood, Tsuneo Suzuki: "Microstructure of Cr(N,O) thin films studied by high resolution transmission electron microscopy", Thin Solid Films, 625 [3] (2017) 111-114. http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2017.01.062.
  7. Suguru Ikeyama, Kazuma Suzuki, Tsuneo Suzuki, Tadachika Nakayama, Hisayuki Suematsu and Koichi Niihara: "Hardness of Cr(N,O) thin films on (001), (011) and (111)-oriented MgO substrates", Japanese Journal of Applied Physics, 55 [2S] (2016) 02BC02-1~02BC02-4. http://doi.org/10.7567/JJAP.55.02BC02.
  8. Shinobu Nagasawa, Kazuma Suzuki, Aoi Sato, Tsuneo Suzuki, Tadachika Nakayama, Hisayuki Suematsu, and Koichi Niihara: "Changes in the electric resistivity of CrN subsequent to oxygen dissolution", Japanese Journal of Applied Physics, 55 [2S] (2016) 02BC18-1~02BC18-4. http://doi.org/10.7567/JJAP.55.02BC18.
  9. Kazuma Suzuki, Tsuneo Suzuki, Yoshiharu Nakajima, Yoshio Matsui, Hisayuki Suematsu, Tadachika Nakayama and Koichi Niihara: "Nanotwin hardening in a cubic chromium oxide thin film", APL materials, 3 [9] (2015) 096105-1~096105-6. http://dx.doi.org/10.1063/1.4931749 .
  10. Kazuma Suzuki, Tsuneo Suzuki, Toshiyuki Endo, Tadachika Nakayama, Hisayuki Suematsu, and Koichi Niihara: "Epitaxial growth of chromium nitride thin films with addition of silicon", Physica Status Solidi (C), 12 [6] (2015) 545-548.
  11. T. Fukushima, H. Asami, T. Suzuki, T. Nakayama, H. Suematsu and K. Niihara, 38th International Conference & Exposition on Advanced Ceramics & Composites, “Preparation of CrN-Ni composites by hot press sintering", (ICACC-S11-024-2014) , January. (2014)
  12. Kazuma Suzuki, Toshiyuki Endo, Teruhisa Fukushima, Aoi Sato, Tsuneo Suzuki, Tadachika Nakayama, Hisayuki Suematsu and Koichi Niihara: "Controlling Oxygen Content by Varying Oxygen Partial Pressure in Chromium Oxynitride Thin Films Prepared by Pulsed Laser Deposition", Materials Transactions, 54 [7] (2013) 1140-1144.
  13. Kazuma Suzuki, Toshiyuki Endo, Aoi Sato, Tsuneo Suzuki, Tadachika Nakayama, Hisayuki Suematsu and Koichi Niihara: "Epitaxial Growth of Chromium Oxynitride Thin Films on Magnesium Oxide (100) Substrates and Their Oxidation Behavior", Materials Transactions, 54 [10] (2013) 1957-1961.
  14. Jun Shirahata, Tetsutaro Ohori, Hiroki Asami, Tsuneo Suzuki, Tadachika Nakayama, Hisayuki Suematsu and Koichi Niihara: "Fourier-Transform Infrared Absorption Spectroscopy of Chromium Nitride Thin Film", Japanese Journal of Applied Physics, 50 [1] (2011) 01BE03-1~01BE03-4.
  15. Jun Shirahata, Tetsutaro Ohori, Hiroki Asami, Tsuneo Suzuki, Tadachika Nakayama, Hisayuki Suematsu, Yoshiharu Nakajima, Koichi Niihara: "Preparation of Cr(N,O) thin films by RF reactive unbalanced magnetron sputtering", Thin Solid Films, 519 [11] (2011) 3497-3500.
  16. Tsuneo Suzuki, Fumiya Sekiguchi, Jun Shirahata, Hiroki Asami, Tadachika Nakayama, Hisayuki Suematsu and Koichi Niihara: "Preparation and Characterization of Cr-Zn-N-O Thin Films deposited by Pulsed Laser Deposition", Japanese Journal of Applied Physics, 50 [1] (2011) 01BE18-1~01BE18-3.
  17. Tsuneo Suzuki, Jun Inoue, Hiroki Asami, Tomoya Ibi, Tadachika Nakayama, Hisayuki Suematsu, Koichi Niihara, “Material Design of Transition Metal Nitrides for Hard Coatings by Metal and Nonmetal Atom Substitution", Key Engineering Materials, 373-374 [-] (2008) 122-125.
  18. Tsuneo Suzuki, Jun Inoue, Hajime Saito, Makoto Hirai, Hisayuki Suematsu, Weihua Jiang and Kiyoshi Yatsui, “Influence of Oxygen Content on Structure and Hardness of Cr-N-O Thin Films Prepared by Pulsed Laser Deposition", Thin Solid Films, 515 [4] (2006) 2161-2166.
  19. Hiroki Asami, Jun Inoue, Makoto Hirai, Tsuneo Suzuki, Tadachika Nakayama, Hisayuki Suematsu, Weihua Jiang and Koichi Niihara, “Hardness optimization of (Cr,Mg)(N,O) thin films prepared by pulsed laser deposition", Advanced Materials Research, 11-12 [-] (2006) 311-314.
  20. Jun Inoue, Hiroki Asami, Makoto Hirai, Tsuneo Suzuki, Hisayuki Suematsu, Weihua Jiang and Kiyoshi Yatsui: "Oxidation Resistance of Cr-N-O Thin Films Prepared by Pulsed Laser Deposition", IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials, 124 [6] (2004) 496-500.
  21. M. Hirai, T. Suzuki, H. Suematsu, W. Jiang and K. Yatsui: "Mechanism of hardening in Cr–Al–N–O thin films prepared by pulsed laser deposition", Journal of Vacuum Science and Technology, A21 [4] (2003) 947-954.
  22. Tsuneo Suzuki, Hajime Saito, Makoto Hirai, Hisayuki Suematsu, Weihua Jiang and Kiyoshi Yatsui: "Preparation of Cr(Nx,Oy) thin films by pulsed laser deposition", Thin Solid Films, 407 [1-2] (2002) 118-121.
  23. Makoto Hirai, Hajime Saito, Tsuneo Suzuki, Hisayuki Suematsu, Weihua Jiang and Kiyoshi Yatsui: "Oxidation Behavior of Cr-Al-N-O Thin Films Prepared by Pulsed Laser Deposition", Thin Solid Films, 407 [1-2] (2002) 122-125.

国際学会

  1. Y. Nishizawa and T. Suzuki: "Improvement on accuracy and detection limit of quantitative oxygen analysis using 16O(α,α)16O resonance reaction", The 6th International Conference on“Science of Technology Innovation" (STI-Gigaku), STI-9-23, Online (October 2021)
  2. Y. Iwasaki, Y. Mizuno, T. Suzuki, T. Nakayama, H. Suematsu and T. Suzuki: "Preparation of Cr-Si-N-O thin films on MgO(001) by pulsed laser deposition", The 7th International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies (EM-NANO 2019), P2-8, Nagano (2019)
  3. T. Sekine, Y. Mizuno, T. Nakayama, H. Suematsu, and T. Suzuki: "Hardness of chromium nitride thin films prepared with the addition of ytterbium", The 7th International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies (EM-NANO 2019), P2-15, Nagano (2019).
  4. D. Kumamoto, T. Sekine, Y. Mizuno, A. Shida, T. Suzuki: "Quantitative Analysis of Oxygen Thin-Film Samples using 16O(α, α)16O with an Electrostatic Accelerator", The 7th International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies (EM-nano 2019), P3-21, Nagano, Japan(2019).　Poster Award
  5. Y. Mizuno, T. Nakayama, H. Suematsu and T. Suzuki: "Characterizations of CrN-Based Hard Coating Materials with Addition of GaN", Materials Science & Technology 2018 (MS&T18), Columbus, USA (2018).
  6. Y. Mizuno, T. Suzuki, T. Nakayama and H. Suematsu: "Solubility limit of B1-GaN to B1-(Cr,Ga)N thin films", 42nd International Conference and Expo on Advanced Ceramics and Composites (ICACC 2018), S11-020, Florida, USA (2018).
  7. Y. Mizuno, T. Suzuki, T. Nakayama and H. Suematsu: "Preparation of B1-(Cr,Ga)N thin films by Pulsed Laser Deposition", The 6th International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies (EM-NANO 2017), PO2-4, Fukui, Japan (2017).
  8. A. Kubo, A. Shida, K. Katagiri, T. Suzuki: "Preparation of RBS/ERDA standard sample for highly precise hydrogen content measurements", The 6th International GIGAKU Conference in Nagaoka (IGCN 2017), RD-93, Japan,Niigata, (October 2017) 　Poster Award .
  9. S. Ikeyama, Y. Ishii, T. Suzuki, T. Nakayama, H. Suematsu and K. Niihara: "Microstructural observations of chromium oxynitride thin film epitaxially gorown on α-Al2O3(001) by pulsed laser deposition", International Symposium on the Science of Engineering Ceramics (EnCera 2016), (Poster session), P.17, Niigata, Japan (May 2016)
  10. S. Nagasawa, K.Suzuki, T. Suzuki, T. Nakayama, H. Suematsu, and K. Niihara: "Electric resistivity in Cr(N,O)", The 5th International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies (EM-NANO 2015) (poster session), P2-12, Niigata, Japan, (June 2015).　Poster Award 受賞
  11. S. Ikeyama, K. Suzuki, T. Suzuki, T. Nakayama, H. Suematsu, and K. Niihara: "Chromium oxynitride thin film epitaxially grown on α-Al2O3 (001) by pulsed laser deposition", The 5th International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies (EM-NANO 2015) (poster session), P1-15, Niigata, Japan, (June 2015).
  12. T. Fukushima, H. Asami, T. Suzuki, T. Nakayama, H. Suematsu, and K. Niihara: "Preparation of CrN-Ni Composites by Hot Press Sintering", The 38th International Conference and Expo on Advanced Ceramics and Composites (ICACC'14) (oral), S11-024, Florida, USA, (January 2014).
  13. T. Suzuki, T. Endo, K. Suzuki, T. Nakayama, and H. Suematsu: "5. Epitaxial Growth of Chromium Nitride Thin Films with Addition of Silicon", 19th International Conference on Ternary and Multinary Compounds (ICTMC-19), O-13B, Niigata, Japan (2014).
  14. K. Suzuki, T. Endo, A. Sato, T. Suzuki, T. Nakayama, H. Suematsu, and K. Niihara: "Superstructure in Chromium Oxide Thin Films Epitaxially Grown on MgO(100) by Pulsed Laser Deposition", The 4th International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies (EM-NANO 2013) (poster session), P2-25, Kanazawa, Japan, (June 2013).
  15. A. Sato, T. Endo, K. Suzuki, T. Suzuki, T. Nakayama, H. Suematsu, and K. Niihara: "Influence of Oxygen Content on the Hardness and Electrical Resistivity of Cr(N,0) Thin Films", The 37th International Conference and Expo on Advanced Ceramics and Composites (ICACC'13) (oral), S11-020, Florida, USA, (February 2013).
  16. T. Endo, K. Suzuki, A. Sato, T. Suzuki, T. Nakayama, H. Suematsu, and K. Niihara: "Preparation of Epitaxially Grown Cr-Si-N Thin Films by Pulsed Laser Deposition", The 37th International Conference and Expo on Advanced Ceramics and Composites (ICACC'13) (oral), S11-022, Florida, USA, (February 2013).
  17. K. Suzuki, T. Endo, T. Fukushima, A. Sato, T. Suzuki, T. Nakayama, H. Suematsu, and K. Niihara: "Control of oxygen content with oxygen gas introduction in Cr(N,O) thin films prepared by pulsed laser deposition", The 36th International Conference and Expo on Advanced Ceramics and Composite (ICACC'12) (oral), FS3-016, Florida, USA, (January 2012).

国内学会

  1. 鈴木芳明、鈴木常生: "[(Cr,Al)1-x, Ybx]N薄膜の成膜と硬度評価", 日本金属学会2021年秋期講演大会(第169回), P87, オンライン, 2022年9月.
  2. 菅井匠、新田純也、中山忠親、末松久幸、鈴木常生: "エピタキシャル(Cr,Fe)N薄膜の電気伝導性", 日本金属学会2020年秋期講演大会(第167回), P18, オンライン, 2020年9月.
  3. 新田純也、菅井匠、中山忠親、末松久幸、鈴木常生: "高品位エピタキシャル窒化クロム薄膜の作業に向けた中間層の選定", 日本金属学会2020年秋期講演大会(第167回), P17, オンライン, 2020年9月.優秀ポスター賞 受賞
  4. 岩崎悠佑, 中山忠親, 末松久幸, 鈴木常生: "エピタキシャルCr(N,O)薄膜の積層不整量と硬度の関係", 日本金属学会2020年秋期講演大会(第167回), P16, オンライン, 2020年9月.
  5. 岩崎悠佑, 中山忠親, 末松久幸, 鈴木常生: "エピタキシャルCr(N,O)薄膜に内在する積層不整の定量評価",日本金属学会2020年春期講演大会(第166回)（アブストのみ）, P125, COVIT-19のため中止
  6. 関根崇, 水野遊星, 中山忠親, 末松久幸, 鈴木常生：“CrN にYb を添加したCr-Yb-N 薄膜の作製と硬度評価", 日本金属学会2019年春期講演大会(第164 回)(ポスター発表), P71, 東京, 2019年3月
  7. 隈元大輝, 水野遊星, 志田暁雄, 鈴木常生: "静電加速器での16O(α,α)16Oによる薄膜試料酸素の高精度絶対定量", 第66回 応用物理学会春季学術講演会, 9p-PA1-8, 東京都, 2019年3月.
  8. 木下堪太, 中山忠親, 末松久幸, 鈴木常生, 水野遊星:　“窒化クロム薄膜の結晶性が電気抵抗率に及ぼす影響", 日本金属学会2019年春期（第164回）大会, P70, 東京都, 2019年3月. 優秀ポスター賞 受賞
  9. 岩崎悠佑, 水野遊星, 中山忠親, 末松久幸, 鈴木常生: "エピタキシャル成長させたCr-Si-N-O薄膜の作製と機械的特性", 日本金属学会2018年秋期（第163回）大会, P80, 宮城県, 2018月9月優秀ポスター賞 受賞
  10. 木下堪太, 中山忠親, 末松久幸, 鈴木常生, 水野遊星: "CrN薄膜の結晶性及び格子間距離の変化に伴う電気伝導性", 日本金属学会2018年秋期（第163回）大会, P141, 宮城県, 2018年9月.
  11. 関根崇, 水野遊星, 中山忠親, 末松久幸, 鈴木常生： “Nb 含有量変化によるエピタキシャル(Cr,Nb)N 薄膜の電気抵抗率の温度依存性", 日本金属学会2018年秋期講演大会(第163 回), P136, 宮城県, 2018年9月
  12. 水野遊星, 中山忠親, 末松久幸, 鈴木常生: "Cr-Ga-N薄膜の作製におけるイオンビーム照射効果と薄膜の特性評価", 日本金属学会 2018年秋期 (第163回) 大会, P76,宮城県, 2018年9月.
  13. 隈元大輝, 久保彩佳, 志田暁雄, 片桐一夫, 鈴木常生: "静電加速器を用いたRBS/ERDA法による水素定量分析のための標準試料の開発", 第15回 日本加速器学会 年会, P95, 長岡市, 2018年8月.
  14. 隈元大輝, 久保彩佳, 水野遊星, 志田暁雄, 鈴木常生: "長岡技術科学大学1.7MVタンデム加速器の現状と応用", 第31回 タンデム加速器及びその周辺技術の研究会, P121, 東京都, 2018年7月.
  15. 水野遊星, 中山忠親, 末松久幸, 鈴木常生: "GaN の添加による CrN の硬度改善とその強化機構", 日本金属学会 2018年春期 (第162回) 大会, P104, 千葉, 2018年3月.
  16. 久保彩佳, 志田暁雄, 片桐一夫, 鈴木常生: "DLC薄膜の高精度水素定量に向けたRBS/ERDA用標準試料の作製", 第31回ダイヤモンドシンポジウム, P2-18, 兵庫, 2017年11月.
  17. 水野遊星, 中山忠親, 末松久幸, 鈴木常生: "B1-(Cr,Ga)N薄膜におけるGaNの固溶限評価",日本金属学会 2017年秋期 (第161回) 大会, P60, 北海道, 2017年9月.
  18. 木下堪太, 鈴木常生, 末松久幸, 中山忠親, 水野遊星, 池山卓:　“CrN薄膜の電気伝導性に及ぼす膜厚の効果", 日本金属学会2017年秋期（第161回）大会, P9, 北海道, 2017年9月.
  19. 水野遊星, 中山忠親, 末松久幸, 鈴木常生: "パルスレーザー堆積法による(Cr,Ga)N 薄膜の作製",日本金属学会2017年春季（第160回）大会, P61,　東京,　2017年3月.
  20. 鈴木常生, 志田暁雄, 片桐一夫, 久保彩佳, 磯浩之: "静電加速器のRBS/ERDAによるDLCの水素定量", 第77回 応用物理学会秋季学術講演会, 新潟, 2016年11月.
  21. 石井義彦, 池山　卓, 木下堪太, 中山忠親, 末松久幸, 鈴木常生: "非平衡条件下でSiを高濃度に置換固溶させたTiN薄膜の実現",日本金属学会2016年秋期（第159回）大会, P202 , 大阪, 2016年9月.
  22. 池山卓,石井義彦,木下勘太,中山忠親,末松久幸,鈴木常生: "不純物酸素の影響を極限まで排除したCrN薄膜の電気伝導性",日本金属学会2016年秋期講演大会(第159回), P201,大阪(2016年9月). 優秀ポスター賞　受賞
  23. 石井義彦, 鈴木知真, 池山卓, 鈴木常生, 中山忠親, 末松久幸, 新原晧一: "MgO(100)基板上にSi固溶したエピタキシャル成長したTi-Si-N薄膜の微構造観察",日本金属学会2015年秋期 (第157 回) 大会, P86, 福岡 (2015年9月)．
  24. 池山卓, 鈴木知真, 石井義彦, 鈴木常生, 中山忠親, 末松久幸, 新原晧一: "α-Al2O3(001)基板上に堆積したエピタキシャルCr(N,O)薄膜の微構造観察", 日本金属学会2015年秋期 (第157回) 大会, P83, 福岡 (2015年9月)．
  25. 長澤忍, 鈴木知真, 鈴木常生, 中山忠親, 末松久幸, 新原晧一: "多結晶およびエピタキシャルCr(N,O)薄膜の電気抵抗率の酸素含有量依存性", 日本金属学会2015年秋期講演(157回)大会, P84, 福岡, 2015年9月. 優秀ポスター賞 受賞
  26. 鈴木知真, 鈴木常生, 中山忠親, 末松久幸, 新原晧一: "Cr-O薄膜中に生じたナノツイン組織の基板材料依存性", 日本金属学会2015年秋期 (第157 回) 大会, P85, 福岡 (2015年9月)．
  27. 鈴木知真, 鈴木常生, 中山忠親, 末松久幸, 新原晧一: "新高硬度酸化物薄膜Cr-Oの電子線回折による結晶構造評価", 日本金属学会2014年秋期（155回）大会, P88, 名古屋, 2014年9月.　優秀ポスター賞 受賞
  28. 泉田恵介, 鈴木知真, 鈴木常生, 中山忠親, 新原晧一: "エピタキシャル成長 Cr(N,O)薄膜へのCu添加が硬度・微構造に及ぼす影響", 日本金属学会2014年秋期（155回）大会, P81, 名古屋, 2014年9月.
  29. 長澤忍, 鈴木知真, 鈴木常生, 中山忠親, 末松久幸, 新原晧一: "3d遷移金属窒化物CrNへの酸素強制置換固溶に伴う電気的特性の変化", 日本金属学会2014年秋期（155回）大会, P89, 名古屋, 2014年9月.
  30. 池山卓, 鈴木知真, 泉田恵介, 長澤忍, 石井義彦, 鈴木常生: 中山忠親, 末松久幸, 新原晧一, “エピタキシャルCr(N,O)薄膜の微構造への基板方位影響", 日本金属学会2014年秋期（155回）大会, P79, 名古屋, 2014年9月.
  31. 鈴木知真, 遠藤稔之, 鈴木常生, 中山忠親, 末松久幸, 新原晧一: "Cr-O薄膜の配向軸の数による微構造・硬度への影響", 日本金属学会2014年春期（154回）大会, P051, 東京, 2014年3月.
  32. 泉田恵介, 遠藤稔之, 鈴木知真, 鈴木常生, 中山忠親, 末松久幸, 新原晧一: "エピタキシャル成長させたCu添加Cr(N,O)薄膜の硬度と結合状態の評価", 日本金属学会2014年春期（154回）大会, P050, 東京, 2014年3月.
  33. 鈴木知真, 遠藤稔之, 鈴木常生, 中山忠親, 末松久幸, 新原晧一: "Cr-O新高硬度薄膜", 日本金属学会2013年秋期（153回）大会, P112, 金沢, 2013年9月.　優秀ポスター賞 受賞
  34. 遠藤稔之, 鈴木知真, 鈴木常生, 中山忠親, 末松久幸, 新原晧一: "Siの存在形態の相異が及ぼすCr-Si-N薄膜の硬度・結合状態の評価", 日本金属学会2013年秋期（153回）大会, P113, 金沢, 2013年9月.
  35. 福島輝久, 浅見廣樹, 鈴木常生, 中山忠親, 末松久幸, 新原晧一: "第3元素を添加したCr-N基焼結体の作製", 日本金属学会2013年秋期（153回）大会, P115, 金沢, 2013年9月.
  36. 遠藤稔之, 福島輝久, 鈴木知真, 佐藤蒼生, 鈴木常生, 中山忠親, 末松久幸, 新原晧一: "パルスレーザー堆積法によりSiを強制固溶させたCr-Si-N薄膜の作製と硬度評価",日本金属学会2013年春期 (第152回) 大会, P54, 東京 (2013年3月).
  37. 鈴木知真, 遠藤稔之, 福島輝久, 佐藤蒼生, 鈴木常生, 中山忠親, 末松 久幸, 新原 晧一: "エピタキシャル Cr（N,O）薄膜の基板拘束による酸素含有量変化", 日本金属学会2013年春期（152回）大会, P55, 東京, 2013年3月.
  38. 佐藤蒼生, 遠藤稔之, 鈴木知真, 鈴木常生, 中山忠親, 末松久幸, 新原晧一: "CrN 系化合物における高硬度化および高電気伝導化", 日本金属学会2013年春期（152回）大会, P56, 東京, 2013年3月.　優秀ポスター賞 受賞
  39. 遠藤稔之, 福島輝久, 鈴木知真, 佐藤蒼生, 鈴木常生, 中山忠親, 末松 久幸, 新原 晧一, “パルスレーザー堆積法によりSiを強制固溶させたCr-Si-N薄膜の作製と硬度評価", 日本金属学会2013年春期（152回）大会 (ポスター発表), 東京, P54, 2013年3月.
  40. 鈴木知真, 遠藤稔之, 福島輝久, 佐藤蒼生, 鈴木常生, 中山忠親, 末松久幸, 新原晧一: "PLD法により作製したエピタキシャルCr(N,O)薄膜の大気下における酸化挙動 ", 日本金属学会2012年秋期（第151回）大会, P100, 愛媛, 2012年9月.
  41. 佐藤蒼生, 遠藤稔之, 鈴木知真, 鈴木常生, 中山忠親, 末松久幸, 新原晧一: CrN への O, Mg の同時添加による硬度および電気伝導性の評価", 日本金属学会2012年秋期（第151回）大会, 愛媛, P101, 2012年9月.　優秀ポスター賞 受賞
  42. 福島輝久, 泉田恵介, 鈴木知真, 浅見廣樹, 鈴木常生, 中山忠親, 末松久幸, 新原晧一: "ホットプレス法によるCr-N系焼結体の作製", 日本金属学会2012年秋期（第151回）大会, P145, 愛媛, 2012年9月.
  43. 鈴木知真, 遠藤稔之, 福島輝久, 佐藤蒼生, 鈴木常生, 中山忠親, 末松久幸, 新原晧一: "PLD法によりMgO単結晶基板上にエピタキシャル成長させたCr(N,O)薄膜の作製", 日本金属学会2012年春期（第150回）大会, P64, 横浜, 2012年3月.
  44. 佐藤蒼生, 遠藤稔之, 福島輝久, 鈴木知真, 鈴木常生, 中山忠親, 末松久幸, 新原晧一: "高硬度・低電気抵抗を目指した CrN 薄膜への置換型固溶元素の添加", 日本金属学会2012年春期（第150回）大会, P65, 横浜, 2012年3月.
  45. 鈴木知真, 遠藤稔之, 福島輝久, 佐藤蒼生, 鈴木常生, 中山忠親, 末松久幸, 新原晧一: "酸素含有量を精密制御したCr(N,O)薄膜のPLD法による作製", 日本金属学会2011年秋期（第149回）大会, P530, 沖縄, 2011年11月.　優秀ポスター賞 受賞
  46. 佐藤蒼生, 遠藤稔之, 福島輝久, 鈴木知真, 鈴木常生, 中山忠親, 末松久幸, 新原晧一: "Cr(N,O)薄膜の酸素量の変化に伴う電気伝導性の評価", 日本金属学会2011年秋期（第149回）大会, P531, 沖縄, 2011年11月.